环形抛光相关论文
根据Preston 方程和Winkler 假定建立了环形抛光系统的理想数学模型，将抛光盘、校正板和工件面形按余弦级数展开、环形抛光系统磨削......
研究了高重心小抛光面的方形工件(抛光面大小30 mm×30 mm, 高90 mm)环形抛光中, 倾覆力矩对工件面形的影响。通过分析方形工件在......
Base on Coulomb friction model, the workpieces with different geometry rotating in free annular polishing are simulated.......
磷酸二氢钾（KH2PO4,简称KDP）作为一种优质的非线性光学材料,是目前惯性约束核聚变（ICF）装置中唯一可用作倍频转换元件和光电开关的大尺......
针对传统方法抛光高功率激光实验中使用的长焦距列阵透镜单元遇到的检测困难、一致性差等问题,提出了采用环形抛光的新方法。对环......
针对环形抛光中抛光盘的面形难以精确控制的问题,以Preston方程和Winkler假定为基础,建立光学元件抛光的基本模型,通过理论分析和......
大口径光学平面玻璃元件是激光核聚变系统（ICF）的核心部件，为保证激光打靶的准确性和系统的安全性，人们对光学玻璃的加工精度有着严苛......
本文围绕大口径超精密光学元件在环形抛光加工过程中遇到的难题，开展了环形抛光中热积聚效应影响的研究，并实现了热积聚效应的有效抑......
针对大口径平面光学元件全频谱面形技术指标的高效率、高精度收敛,研究了环形抛光技术。考虑环抛机沥青蜡盘的平面度直接影响工件......
通过建立环形抛光的去除模型，从理论上分析了转速比、槽形、元件摆动对于抛光结果的影响，并分析了中频误差产生的原因。模拟结果表明......
根据环形抛光的加工特点,研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4m环抛机上进行了610mm×440mm×85mm的大口径反射......
采用Stober法制备了平均粒径分别约为50nm和300nm的SiO2抛光液。通过透射电镜、粒径测定仪、zeta电位仪测试和分析了制备的SiO2抛......
针对大口径平面光学元件全频谱面形技术指标的高效率、高精度收敛,研究了环形抛光技术。考虑环抛机沥青蜡盘的平面度直接影响工件......
<正> 环形浮动抛光法(或称连续抛光)是加工高精度光学平面的一种好方法。它是在古典式抛光法改进成摆架式分离器和蟹钳式分离器基......
超精密平面光学元件广泛应用于激光惯性聚变约束装置、天文望远镜、强激光武器、生物医学成像与检测等方面。环形抛光作为大口径超......
随着我国现代科学技术的发展,特别是激光技术、微电子学技术、空间技术的发展,对光学零件的精度要求不断的提高,因而出现了新的高......
随着光电子技术的发展，铌酸锂晶体在行业中的作用越来越重要，利用铌酸锂晶体制作超精密元器件的需求与日俱增。这类元器件不仅需要极......
现今许多大型系统需要大量的大口径高精度平面光学元件，在此类元件的加工中，环抛(Continuous Polishing)是一种非常重要的抛光技术，但......
