等离子体增强磁控溅射相关论文
Ti-Al-C-N涂层成分范围广、相结构丰富,为制备性能更优的新三代氮化物硬质涂层提供了良好平台。但四元相图上可获数据有限,Ti-Al-C......
以CrN系为代表的硬质涂层因其具有高硬度、高耐磨性,以及优异的耐腐蚀性和抗高温氧化性,而被大量用在刀具、模具、航天和装饰等领......
硬质薄膜能够有效改善机械零件表面的摩擦磨损性能,不同制备工艺对硬质薄膜的结构和性能的影响规律不同。本文采用等离子体增强磁......
采用热丝增强等离子体磁控溅射技术,通过改变基体偏压,在TC4钛合金表面沉积了多层素CrN涂层。利用SEM、EDS和XRD分别分析了多层素C......
利用等离子体增强非平衡磁控溅射技术,在7A04铝合金表面制备Cr/CrN的复合硬质薄膜。研究Ar、N2通量比(即FAr/FN2)和腔体压强对薄膜......
以CH4和Ar为工作气体,单晶硅为溅射靶,通过微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射方法在不同的CH4流量和沉积温度下制......
TiN基薄膜具有高硬度,优良的耐磨性和耐蚀性,被广泛的应用于切削刀具、模具及耐磨机械零件的表面防护领域。磁控溅射是制备TiN基薄......
学位
CrN涂层具有高硬度、结合力强、低摩擦系数等优良性质,随着工件的服役环境日趋严苛,单一的CrN涂层已经不能满足工作需求。多元涂层......
学位
随着科学技术的逐渐发展,在制造业,铸造业等行业中的作业条件愈趋极端,这就对使用工具的品质提出了更高的要求。要求工具表面有好......
学位
目的研究N2流量对等离子体增强磁控溅射TiN涂层组织结构和性能的影响,优化TiN涂层的制备工艺。方法在不同N2流量的条件下,采用等离......
本论文在微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体辅助下,利用Si、C双靶磁控溅射和Si靶、CH4磁控溅射两种方法分别制备了无氢和含氢SiC薄......
采用等离子体增强平衡磁控溅射技术在316L奥氏体不锈钢基体表面制备了不同靶电流密度条件下的Cr2N薄膜,并检测分析了靶电流密度对......
期刊
用等离子体增强磁控溅射（PEMs）方法制备了TiSiCN、TiCrSiCN和CrSiCN涂层，并在空气中进行700℃退火处理。利用扫描电子显微镜、能谱仪......
