退火晶化相关论文
用化学沉积法制备Ni-W-P合金镀层。利用扫描电镜(SEM)及X射线衍射(XRD)技术,并结合JADE软件定量分析镀层微观组织特征,研究了退火......
近年我们在一系列铁基非晶合金中,发现了非晶的激波晶化效应,它存在一系列不同于退火晶化的新特征.本文应用XRD研究了激波对非铁基......
在气体激波管中，利用激波对非晶的直接作用，在微秒量级时间内，成功地将ＦｅＢＳｉ、ＦｅＭｏＢＳｉ及ＦｅＣｕＮｂＢＳｉ等非晶合金转变成为纳米晶，主要化相晶粒平均尺寸在２０￣６０ｎｍ范围，晶化......
NdFeB永磁体具有优异的磁学性能和商业价值,广泛的应用于电子、信息、通信等多个行业。而NdFeB永磁薄膜是现在永磁体薄膜领域的研......
对Fe-Mo-Si、Fe-Cu-Nb-B-Si等非晶合金作了真空退火及激波冲击实验,观察到非晶"激波纳米晶化"新现象.利用XRD、DSC和TEM技术,对退......
双相纳米晶永磁材料以其优异的性能(如其理论磁性能可达1090kJ/m~3,高于任何一种单相永磁材料)引起广泛关注。其中如何制备具有高......
采用XAFS,XRD和DTA方法研究了Ni-B和Ni-Ce-B超细非晶态合金在退火过程中的结构变化及其结构与催化性能的关系. 活性结果表明,在退......
以大量非晶态ＦｅＢＳｉ合金系晶化实验为基础，研究了非晶合金激波晶化的特点，并把激波晶化与常压、静态高压下非晶退火晶化作对比．......
本文采用XAFS、XRD、DTA三种方法研究化学还原法制备的NiB超细非晶态合金在退火过程中的结构变化及结构与催化性能的关系。XRD和XA......
利用共焦显微喇曼光谱仪,对采用PECVD方法制备的非晶硅薄膜进行了退火晶化.晶化后薄膜的喇曼光谱表明,薄膜由非晶硅结构转变为微晶......
研究了非晶合金Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9(FINEMET)的激波晶化。与退火晶化比较，激波晶化具有一系列鲜明特征，这些特征是固态下扩散性相......
用XRD定量分析法并结合扫描电镜形貌观察,研究化学沉积高磷（13.3%）含量的Ni-W-P镀层在不同热处理条件下的晶化程度、晶粒尺寸及晶格......
采用射频磁控溅射在二氧化硅衬底上沉积一层厚度200nm的非晶In-Ga-Zn-O(IGZO)薄膜,并在IGZO膜层上沉积厚度分别为20nm、50nm、60nm......
本文通过透射电镜研究 Ge-Au、Ge-Ag 膜退火后的形貌与结构,根据合金膜自由能的变化得出计算晶化激活能的公式,提出了利用真空退火......
研究了射频磁控溅射的Pb（Zr0.52Ti0.48）O3（PZT52/48）薄膜在退火晶化时,厚度对其结晶态及表面形貌的影响。首先利用Materials Studio软......
采用同步辐射EXAFS技术定量地研究化学还原法制备的Ni-B 和Ni-Ce-B超细非晶态合金中Ni原子的局域环境结构随退火温度升高而产生的......
与单晶硅材料相比氢化非晶/纳米晶硅(a-Si:H/nc-Si:H)不仅拥有较高的光吸收系数,还具备光学带隙、电导率可调和制备成本低等特点,......
