部分相干成像相关论文
光场的相干性是定量衡量其产生显著的干涉现象所具备的重要物理属性。尽管高时空相干性的激光已成为传统干涉计量与全息成像等领域......
分析了投影光刻系统中部分相干成像的过程,结果表明部分相干成像的像强是相干成像的像强对光源上每一点互相干强度的权重和,得出了近......
本文用部分相干光成像理论研究了提高分辨力及增大焦深的原理.建立了二元光栅倾斜照明成像数理模型。对几种倾斜照明方式进行了模拟......
光刻空间像仿真作为各种计算光刻技术的基础,受到越来越多的重视。提出一种基于互强度傅里叶分析的光刻机投影成像快速模拟方法,从......
该文研究准分子激光光刻中相移掩模的设计,制作,光刻实验,重点是相移掩模的智能设计.介绍了准分子激光光刻的进展,讨论了相移掩模......
根据光学成像理论,建立了部分相干成像光学系统的光学传递函数.该函数与非相干成像光学系统传递函数相同,因而部分相干成像和非相......
本文用部分相干光成像理论研究了提高分辩力及增大焦深的原理,建立了二元光栅倾斜照明成像数理模型。对几种倾斜照明方式进行了模拟......
结合曝光光源对称和矩阵计算的特点,本文提出了一种快速的部分相干成像算法。根据部分相干光源对称的特点,将光源离散为以光源中心为......
基于部分相干成像和分数傅里叶变换,提出在投影光刻系统中,利用分数域滤波改善光刻图形质量的新方法.理论和模拟分析表明:在曝光成......
在共聚焦显微镜中,光源和探测器是有限大小的,成像过程是部分相干的,有必要分析光源对系统分辨能力的影响。首次利用部分相干成像......
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近年来,基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字光刻技术引起了人们的极大的关注。DMD作为数字光刻系统的掩模发生器,具有灵活、低成本......
随着光刻关键尺寸的下降,由于光学衍射效应造成的光学临近效应对光刻图形造成的畸变会导致光刻的输出图形与目标图形有一定差距,甚至......