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实验研究表明,多晶硅中注入一定剂量的BF〈,2〉〈’+〉后再形成CoSi〈,2〉,其高温稳定性出未注入BF〈,2〉〈’+〉的情况有进一步的提高。在能使钴硅充......
1、产品及其简介rn本工艺技术平台以国际主流0.18微米CMOS工艺为目标,与世界先进的FOUNDRY工艺相匹配,并有很强的兼容性,可兼容RF ......
用电镜对Si(001)基体上的Co薄膜的室温相和稳定性进行了观察,高分辨像和小角解理的电子衍射结果均表明:室温下,Co薄膜不发生反应,室温相为α-Co,没有硅......
本文采用READx光相机照像的方法,对部分不同退火温度和退火时间的Co/si系薄膜样品进行了x射线衍射分析,对目前尚有争议的一些问题......
金属硅化物在VLSI/ULSI器件技术中起着非常重要的作用,被广泛应用于源漏极和硅栅极与金属之间的接触。其中自对准硅化物(self-alig......