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磁控溅射法制备的CZGe_xT_(1-x)S薄膜的光电性能研究
用先磁控溅射多层金属膜预置层后硫化的方法成功制备出CZGe_xT_(1-x)S薄膜,并主要研究了Ge含量对于该薄膜光电学性能的影响。分别......
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