CrSin相关论文
采用磁控溅射工艺,在304不锈钢和硅片表面沉积了不同Si含量的CrSiN复合薄膜.分别在3.5 wt.％ NaCl、HCl与NaOH溶液三种介质中测试薄......
采用中频非平衡反应磁控溅射技术在单晶硅P（111）基材上制备了CrSiN纳米复合薄膜。利用X射线衍射仪（xRD）、X射线光电子能谱仪（XPS）、Kevex......
有关于CrN涂层的研究已经有很多,过渡金属和非金属的掺入会大大影响CrN涂层的物理化学性能.在制备的过程一般采用的是PVD技术如多......
硅是现代工业最重要的半导体材料之一。纯硅团簇的化学性质不稳定，很难作为合成材料的基元。研究表明，过渡金属掺杂硅团簇不但能使硅......
