采用Cu靶和Al靶直流共溅射法制备了p型透明导电Cu-Al-O薄膜。用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)仪、四探针测量仪、紫外-可见分......

采用Cu靶和Al靶直流共溅射法制备了P型透明导电Cu-Al-O薄膜.用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)仪、四探针测量仪、紫外-可见分......

通过制备Cu-Al-O薄膜并对其进行退火处理,研究了退火时间对薄膜形貌、结构以及紫外-可见透过率、带隙、中红外透过率的影响。研究......

使用多晶CuAlO2陶瓷靶，利用射频磁控溅射法沉积Cu-Al-O薄膜。傅立叶变换红外光谱显示薄膜中存在与CuAlO2相关的Cu-O,Al-O和O-Cu-O键......

反应磁控溅射方法在玻璃基片上沉积Cu-Al-O薄膜,并对薄膜进行退火处理,研究溅射功率和退火温度对薄膜结构和光电学性质的影响。用X......

通过制备Cu-Al-0薄膜并对其进行退火处理，研究了退火时间对薄膜形貌、结构以及紫外一可见透过率、带隙、中红外透过率的影响。研究......