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SiOx is widly used in semiconductor,packing,harding coating because of its excellent performance of heat resistance and ......

在钟罩式内极反应器中进行了六甲基二硅氧烷(HMDSO)和四氟化碳(TFM)混合气体等离子体聚合。用IR、XPS、X射线对聚合膜结构进行了表......

在钟罩式内极反应器中进行了六甲基二硅氧烷(HMDSO)和四氟化碳(TFM)混合气体等离子体聚合。用IR、XPS、X射线对聚合膜结构进行了表......

本文利用六甲基二硅氧烷（HMDSO）作为先驱物质、氢气为稀释气体，进行了等离子体化学气相沉积碳硅薄膜的实验研究。运用X射线衍射、拉曼......