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ＬＩＣＶＤ制备纳米固体块材装置的研制＊王颖朱震刚蔡树芝王静（中国科学院固体物理研究所合肥２３００３１）０引言激光诱导化学气相沉积（Ｌａｓｅｒ－ＩｎｄｕｃｅｄＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ．简称为：ＬＩＣＶＤ）方法制备超细粉末......
介绍了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工艺原理，通过增加正交紫外光束激励NH3分解，提高气相中n（N）／n（Si）比，从而减少产物中游离硅......
氮化硅(Si3N4)是优良的陶瓷材料,应用十分广泛.本文论述了激光诱导化学气相沉积法制备纳米Si3N4的工作原理,提出了减少游离硅的措......
对高温ＣＶＤ和ＬＩＣＶＤ制备高纯钠米ＳｉＯ２粉末工艺进行了理论分析，并通过系统的实验研究，制取了大量极细颗粒ＳｉＯ２粉末。对制备的粉末进行透射电分析，比较了两......
用激光化学气相沉积法制备出平均粒径为１０ｎｍ左右的α－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子，红外吸收和喇曼光谱研究表明ａ－Ｓｉ３Ｎ４纳米粒子中存在Ｓｉ－Ｎ，Ｓｉ－Ｈ，Ｎ－Ｈ，Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ键，分析了ａ－ＳｉＮ４纳米粒子在不同的温度......
用CO2红外激光诱导化学气相沉积的方法制备纳米Si,激光强度越大,则SiH4受热温度越高,纳米Si的成核率越高,纳米Si核的密度越大,每一......
氮化硅是优良的陶瓷材料,应用十分广泛.本文论述了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施;采用......
