采用PCVD工艺,可实现“扩散硬化层+硬质涂层”的复合处理,工件变形小,涂层的附着力强、致密性好。采用脉冲DC-PCVD法制成的TiAlSiC......

PCVD技术的关键在于适宜的设备及相应的工艺参数.在查阅大量国内外文献及考察相关试验设备的基础上,对实验PCVD设备进行了改造,改......

采用PCVD工艺研制此类光纤有非常重要的理论意义和实用价值.主要成果和结论如下:1.数值模拟设计并采用PCVD工艺制造了非零色散位移......

设计并采用ＰＣＶＤ工艺制造了大有效面积非零色散位移光纤（ＬＡＰＯＳＨ光纤）。采用色散补偿原理，利用５个光纤放大器，经过４段跨距１００ｋｍ左右的ＬＡＰＯＳＨ光纤，最终在４０６ｋｍ该类光纤上......

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对光纤ＰＣＶＤ（等离子体化学气相沉积）制造工艺的微波等离子体有源区的性质进行了分析，指出微波电场是使反应物电离的决定因素之一，而反应物电......

保实光纤及大保实光纤，将零色散点移至１５３０ｎｍ以下，使１５５０ｎｍ窗口带有小的正色散，其中大保实光纤有较大的有效面积，它们可以有效地消除非线性效应，同时......

大芯径大NA值多模光纤广泛用于光纤通信与光纤传感领域.主要用作数据通信、能量耦合及信息传输,器件及设备间的互联与接续等.CVD工......

本文简单地介绍了PCVD工艺的特点,分析了PCVD工艺中影响光纤参数的主要因素;并阐述了PCVD的大棒与光纤制造工艺,随着PCVD工艺的不......

介绍了PCVD低水峰光纤生产工艺和其材料组成、结构及性能,在生产普通单模光纤的基础上,通过优化PCVD工艺,成功抑制了普通单模光纤......