采用磁控溅射法制备了不同Al含量的Ti1-xAlxN涂层.经XRD,SEM,EDX和纳米压痕仪分析发现,Al含量在0.50~0.58(原子分数,下同)之间时,T......

采用多弧离子镀和磁过滤阴极电弧离子镀技术制备了Ti1-xAlxN涂层.研究了工艺参数对用Ti:Al=1:1的TiAl合金靶制备的Ti1-xAlxN涂层表......

将电弧离子镀和中频非平衡磁控溅射工艺相结合制备了Ti1-xAlxN薄膜。利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪、显微硬度计、划痕仪、摩......

应用离子渗氮与多弧离子镀复合技术在40Cr基体上制备Ti1-xAlxN复合膜层,采用扫描电镜、XRD分析仪、显微硬度仪与划痕仪研究Al含量......

采用多弧离子镀技术交互沉积工艺，使用合金靶与纯Ti靶在齿轮材料40Cr基体表面实现梯度Ti1-xAlxN膜层的制备，通过研究不同X值时梯度Ti......