化学蚀刻工艺相关论文
Fiber inline interferometric refractive index sensors fabricated by femtosecond laser and fusion spl
A fiber inline interferometric refractive index(RI) sensor consisting of a microchannel and a fiber taper is proposed in......
探讨了蚀刻剂中重铬酸钾浓度、硫酸浓度及蚀刻温度、蚀刻时间等因素对聚丙烯膜基体蚀刻速率的影响;建立了基体蚀刻速率与重铬酸钾......
半导体芯片支撑即印制板最基本要素就是形成电子回路配线,几十年以来沿用传统的光化蚀刻工艺制作成的。配线的形成工艺是比较复杂的......
本文介绍了Y-Ba-Cu-O(YBCO)高Tc超导膜的两种成型方法,化学湿法刻蚀的肃离光刻度技术,在化学蚀刻方法中,发现腐蚀液H3PO4/H2O的腐蚀速率......