反向光刻相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

反向光刻相关论文

芯片制造语境下的计算光刻技术

计算光刻技术是提高分辨率的重要手段，是连接芯片设计与制造的桥梁。首先，介绍了计算光刻技术的起源即第1代光学邻近效应校正（OPC）技术......

期刊

计算光刻光学邻近效应校正全景优化反向光刻

先进节点逻辑集成电路光学临近效应修正中工艺窗口提高研究

集成电路生产进入亚微米时代后,随着集成电路器件尺寸越做越小,曝光机台的分辨率需要跟着提高。分辨率增强技术如离轴照明技术、相......

学位

光学临近效应修正亚辅助图形反向光刻 OPC检查工艺波动检查

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