计算光刻相关论文
光刻是将集成电路器件的结构图形从掩模转移到硅片或其他半导体基片表面上的工艺过程，是实现高端芯片量产的关键技术。在摩尔定律的......
计算光刻技术是提高分辨率的重要手段，是连接芯片设计与制造的桥梁。首先，介绍了计算光刻技术的起源即第1代光学邻近效应校正（OPC）技术......
光刻是集成电路制造的核心技术,光刻工艺成本已经超出集成电路制造总成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中,只有光刻工......
目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光......
按照逻辑器件发展的节点顺序,依次论述了各种光学邻近效应修正技术:基于经验的光学邻近效应修正、基于模型的光学邻近效应修正、曝......
随着集成电路和半导体技术的发展,光刻图形的关键尺寸达到所采用照明光源波长以下。因此光刻成像系统会产生光学临近效应,从而导致......
目前,光刻技术仍然是超大规模集成电路制造的主要手段,随着集成电路特征尺寸(CD)的不断缩小,集成电路制造对光刻分辨力的要求也越......
