大面积镀膜相关论文
磁控溅射主要用于针对越来越多的各种创新性应用在基材上大面积沉积多层结构薄膜.脉冲电源用于介电和半导体化合物的反应沉积,从而......
采用直流磁控溅射工艺于200℃的玻璃基板制备了大面积AZO透明导电薄膜。重点研究了样品晶体结构、方阻、可见光透过率、样品形貌等......
磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一。然而 ,这种镀膜技术亦存在一些缺点 (例如 ,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子......
为保证大面积金刚石镀膜衬底温度均匀,采用多只温度传感器多点测量衬底表面温度。为滤除测量噪声,采用最优加权融合方法对每一时刻......
