无掩膜刻蚀相关论文
微纳米加工中，等离子体刻蚀技术因具有高刻蚀速率、良好的方向性和材料选择性等优势得到了广泛应用。但传统的刻蚀加工中，等离子体作......
微小等离子体(微放电)具有尺度小，功耗低、密度高以及可在较高的气压下工作等优点，将其作为微等离子体源用于材料表面的无掩膜刻蚀加......
等离子体刻蚀技术因其较高的刻蚀速率、良好的方向性和材料选择性等优势得到了广泛应用。但在传统的刻蚀加工中，等离子体作用于整个......
传统的等离子体刻蚀中，等离子体是作用在整个样品表面上的，需要借助造价较高的设备仪器和繁冗的光刻工艺来实现局部刻蚀。利用尺寸在......
现阶段，柔性电子技术引起了全世界的高度关注和重视，并在工业界和学术界得到迅速的发展。简易方便的高分辨率图形化技术是柔性电子技......
设计了一种用于微等离子体无掩膜刻蚀加工的微悬臂梁探针结构,即将微等离子体放电器集成在SiO2悬臂梁探针端部的空心针尖上,等离子......
等离子体刻蚀技术因其较高的刻蚀速率、良好的方向性和材料选择性等优势得到了广泛应用。但在传统的刻蚀加工中,等离子体作用于整......
传统的等离子体加工技术需要通过掩膜板来实现,这个过程不仅周期长,而且加工成本高昂。为了实现无掩膜等离子体刻蚀加工,课题组之......
大气压微细冷等离子体射流是大气压下产生的直径为毫米至亚毫米量级的非平衡态等离子体射流。在总结大气压冷等离子体射流及其在半......
