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本文介绍了一台在原有第一代超高真空化学气相沉积系统基础上自行研制的第二代新型的UHV/CVD,反应室本底真空可达5.0×10Pa,它由气......
研究了改变本底真空对薄膜质量的影响，给出了在该系统中得到质量较高金刚石薄膜的最小本底真空值：阐述了降低灯丝温度对薄膜质量的影......
基于当前不同研究者在研究高锰硅过程中选用的本底真空度区间跨度过大的现状,本文以本底真空度为变量,在Si衬底上沉积锰膜,对不同......
由于热丝法气相沉积金刚石薄膜质量好,设备简单,成本低而受到广泛应用。本文研究了改变背底真空对薄膜质量的影响,着重讨论了在该......
