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采用反应磁控溅射法制备TaNx薄膜,研究了溅射温度对薄膜成分、结构和性能的影响。结果表明,随溅射温度的升高,薄膜中氮含量先降低......
通过磁控反应溅射,在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。通过对其光电性能的分析测试,探讨了溅射温度对氧化钛薄膜性能......
采用非平衡磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢上制备了ZrN薄膜。用SEM、EDS观察并分析了薄膜的表面形貌和成分,用光电轮廓仪测量了膜......
