铁化镍相关论文
采用磁控溅射技术研究了溅射温度对各向异性Ni80Fe20磁阻薄膜特性的影响.提高溅射温度给薄膜原子提供了能量,使薄膜原子在基片表面......
用直流磁控溅射和快速真空磁场退火工艺在玻璃基片上制备了［NiFe/Ag］n不连续多层膜。从理论上分析了不连续膜低响应、高磁电阻值的机......
用频磁控溅射方法在不同基片温度下玻璃基片上分别制备ＮｉＯ单层膜、ＮｉＦｅ单层膜和ＮｉＯ／ＮｉＦｅ双层膜，研究了不同基片温度对膜的磁性能的影响，用振动样品磁......
