激光诱导扩散相关论文
在半导体激光诱导扩散实验中,用连续波CO2 10.6μm激光聚焦后照射基片表面.为实现局部区域的选择扩散,激光光斑半径仅数十微米.要......
用连续波激光诱导扩散制作单片集成光接收机中的探测器时,激光照射形成的高温区面积很小.当入射激光焦斑光强为高斯分布甚至平顶帽......
激光诱导扩散中曝光区的大小在１０μｍ数量级，其温度分布的测量是比较困难的，该文报道一种曝光区中极微小面元的不接触测量，文中介绍了测量......
通过SIMS对激光诱导扩散杂质浓度分布的研究,提出了一个测量扩散区只在μm量级或10μm量级范围内的杂质浓度分布的方法.首先利用光......
激光诱导扩散中的曝光区大小为１０μｍ量级，其温度分布的测量是较困难的。本文报道一我中极微小面积的不接触及控制。文中介绍测控原理、......
采用激光微细加工技术来制作单片集成光接收机的探测器,在制作过程中,用固态杂质源10.6 μm激光诱导Zn扩散工艺来进行探测器的p-区......
激光诱导扩散中，当入射激光光强为高斯分布甚至均匀分布时，微小扩散区的温度分布不均匀。由于扩散系数是温度的函数，必将导致扩散后杂......
<正> 1.研究内容本项目研究了以GaAs为衬底的固态杂质源激光诱导扩散。①半导体基片上微小高温区(即激光诱导扩散中的曝光区,直径1......
在激光微细加工中,激光曝光区的温度对激光诱导扩散生成p-n 结的结深、杂质浓度的分布和激光辅助合金生成欧姆接触的接触电阻等具......
激光诱导扩散是用聚焦的激光束局域加热半导体基片,将杂质以扩散的方式掺入到特定区域并且达到一定要求的一种技术,具有“低温处理......
