溅射镀膜技术因其所制得的膜层具有结合力强，镀层致密、均匀，且无污染、低成本、高效等优点，广泛应用于材料、物质、能源、环境等诸多......

研制了一台以NiosII嵌入式处理器为核心的非平衡磁控溅射（Unbalanced Magnetron Sputtering,简称UMS）高性能电源。采用片上可编程系......

研制了一台高性能双极性脉冲非平衡磁控溅射（MS）电源。该电源以FPGA为控制系统核心，采用交变脉冲单元实现双极性脉冲输出，并针对脉冲条......