使用了四种非离子表面活性剂分别添加到以SiO3水溶胶为磨料、H2O2为氧化剂的碱性铜抛光液中进行抛光试验。结果表明：所选用的非离子......

集成电路（integrated circuit,IC）按照摩尔定律已经发展60余年,芯片内集成晶体管数量已经达到1011,最新的技术节点已经进入7nm阶段,......

为适应极大规模集成电路(GLSI)集成度按摩尔定律飞速发展的需要,同时解决国际酸性化学机械平坦化(CMP)技术存在的多项问题,本文研......

研究了一种碱性铜抛光液,其基本组分是硅溶胶磨料、新型FA/O V型螯合剂、非离子表面活性剂和氧化剂(H2O2)。在压力为2 psi(1 psi=6......