磁控靶相关论文
通过在橡胶表面沉积C-DLC 膜层以达到耐磨性能的提高，是保证密封质量的重要研究课题。本文采用闭合场非平衡磁控溅射(CFUBMS)方......
本文主要研究利用一种强磁控单靶Al-N/Al离子溅射高科技工艺方法制成的高效波纹玻璃太阳集热管·热管高效加热器.这是一种新型的波......
该论文介绍的两用型磁控是真空镀膜源设计的一个新的思路.它将磁控溅射技术和多弧技术结合一起,即采用一个靶,通过合理地设计磁场......
本文应用磁控溅射设备制备TiO2亲水性薄膜，并通过日立(HITACHI)U-2800紫外可见分光光度计、X射线衍射分析仪(XRD)、原子力显微镜(AF......
高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)因其高离化率而得到广泛关注,是目前的热点研究方向,为此我们搭建了试验平台并对HPPMS的放电特性进行了......
【正】 本设备采用二级计算机全自动控制,本机分为自动上板段清洗段,磁控镀膜真空室段,自动测量段及自动装卸段组成。镀膜段又分成......
矩形平面磁控溅射装置中存在着诸如磁场，电场，气压，靶材，基片温度及速度，几何结构等参数间的相互影响，并且最终决定了沉积薄厝的性能，为了......
