管式PECVD相关论文
隧穿氧化硅钝化接触（TOPCon）晶体硅太阳电池（下文简称为“TOPCon太阳电池”）被广泛认为是产业用下一代主流高效晶体硅太阳电池技术，目前......
本文对采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积的氮化硅与氮氧化硅(SiyNx/SiOxNy)叠层膜进行了实验研究,结果表明:在硅片......
本文以多晶硅太阳能电池正面减反射钝化介质层薄膜为研究对象,薄膜采用管式PECVD法沉积,试验验证结果表明,通过合理设计工艺参数,......
以多晶硅电池管式等离子增强化学气相沉积(plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)工艺对组件电势诱导衰降(potential ......
基于电阻率为1.8Ω·cm的P型多晶硅片,实验研究了管式PECVD和平板式PECVD沉积的氮化硅膜对多晶硅太阳电池的影响.利用椭偏仪、积分......
针对管式PECVD色差数量多，组件外观差等问题，从硅片薄厚、PECVD工艺技术和设备三个方面对问题进行了分析和探讨。通过对色差硅片进行......
氮化硅膜层在晶体硅太阳电池中起到钝化和减反射的作用，对太阳电池的转换效率有着重要的影响。实验采用P型多晶硅片，经制绒、扩散和......
管式PECVD工艺参数主要包括：温度、气体流量、压强、功率、频率开关比和沉积时间等。采用传统实验方法研究各工艺参数对氮化硅膜的......
利用管式PECVD在多晶硅片上获得钝化效果和减反性能优异的双层SiNx∶H薄膜,其中底层和顶层SiNx折射率分别为2.35和2.01,膜厚为17 n......
研究了预热型管式PECVD设备的结构及其对镀膜性能的影响。通过合理利用管式PECVD设备的净化台空间,对常规型管式PECVD设备的整体结......
本文主要研究管式PECVD的二次镀膜工艺优化,通过对石墨舟使用次数与状态的实验对比分析,得出未经镀膜或者镀膜次数较少的石墨舟可......
主要研究了用在管式PECVD沉积SiO2-Si3N4叠层钝化膜对电池片效率及组件PID的影响。叠层钝化膜可以通过管式PECVD工艺一次性完成。......
高效单晶PERC电池为当前太阳电池产业中主要的大规模扩张方向,其主要的生产流程包括制绒、磷扩散、掺杂、刻蚀、PECVD、丝网印刷、......
研究了在真空与氮气两种环境中不同的退火温度和退火时间对氮化膜薄膜性能影响,测试了退火后氮化硅薄膜的膜厚、折射率、少子寿命......
针对太阳能电池镀膜工艺中的沉积时间DLV手动录入易出错问题,提出了沉积步骤优化设计方案。该方案补充了DLV防错程序,使得操作员第......
文章针对管式PECVD镀氮化硅薄膜均匀性问题,从硅片厚度检测、制绒成品检测、PECVD工艺调整及石墨舟的使用四个方面对问题进行了分......
为改善多晶硅片在管式PECVD设备中的镀膜均匀性,主要从镀膜工艺参数的设定、硅片制绒面反射率及石墨舟状态这3个方面进行了镀膜均......
