以管式PECVD设备的温控系统调节对镀膜均匀性的影响为研究对象,通过实验研究的方法,分别研究了温控系统调节中温区的温度设置、加......

针对传统条形磁控溅射靶磁场分布不理想、靶材利用率低、镀膜不均匀等不足,通过优化磁场分布,缩小条形靶端部与中部的磁场差距,增......

采用PECVD法在晶体硅太阳能电池表面上镀上一层氮化硅减反射膜，通过数值分析和实验研究的方法讨论了压强、SH4/NH3的比、总气体流量......

ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......

文章针对管式PECVD镀氮化硅薄膜均匀性问题,从硅片厚度检测、制绒成品检测、PECVD工艺调整及石墨舟的使用四个方面对问题进行了分......

离子镀膜设备具有成膜速度快、所制膜层与基体结合力强和膜层更致密等优点，因此在真空镀膜设备中应用最为广泛。本文旨在运用电弧离......

本文详细介绍了ZZL-2200/2.5大型高真空连续卷绕镀膜设备的工作原理、结构组成、性能特点和创新设计要点及推广应用前景。分析并指......

为改善多晶硅片在管式PECVD设备中的镀膜均匀性,主要从镀膜工艺参数的设定、硅片制绒面反射率及石墨舟状态这3个方面进行了镀膜均......