光掩膜版是光刻工艺过程的基本工具，是生产集成电路和平板显示器(LCD、PDP、VFD等)的关键器件，其质量对现代集成电路的发展有着至关......

以ＣrＣ１３为原料，三乙基硼氢化钠为还原剂，聚乙烯吡咯烷酮为分散剂，ＰdＣ１２为成核剂，于甲苯溶剂中制备出平均粒径约５０ｎｍ的铬粉，反应温度、反应物浓度、分......