用光反射差法原位监测薄膜外延生长

来源 :2002年全国电子测控工程学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sannian

【摘要】

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薄膜生长过程中,原位监测膜层的表面平整度对薄膜和超晶格的制备是至关重要的.监测通常用高能电子衍射(RHEED).但是这种设备在真空室压强高于10Pa时就不能工作.我们发展了一

【作者】

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周岳亮;吕惠宾;朱湘东;崔大复;陈凡;陈正豪;杨国桢;

【机构】

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中国科学院物理研究所

【出处】

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2002年全国电子测控工程学术年会

【发表日期】

：

2002年期

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薄膜生长过程中,原位监测膜层的表面平整度对薄膜和超晶格的制备是至关重要的.监测通常用高能电子衍射(RHEED).但是这种设备在真空室压强高于10<-5>Pa时就不能工作.我们发展了一种新的被称为光反射差的监测方法.这种方法具有高灵敏度,可以监测薄膜外延生长.而其优点是不需要真空环境.本文给出光反射差监测装置的结构和实验结果.

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