Ge衬底上MOCVD生长GaInP/InGaAs研究

来源 :第十三届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chenxiang1006
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  本文研究利用MOCVD 在Ge 衬底上生长GaInP/InGaAs材料,通过优化Ge衬底预处理及GaInP成核层条件,得到了表面形貌良好的GaInP成核层.然后在此GaInP上生长了InGaAs缓冲层,原子力显微镜(AFM)测量显示InGaAs外延层的表面粗糙度Ra<0.65nm.最后,利用二次离子质谱仪(SIMS)分析了Ge与Ⅲ–Ⅴ族半导体材料在界面处的互扩散,测试结果表明,采用GaInP成核层可以有效抑制Ga、As和Ge等原子在界面处的互扩散,GaInP可作为Ge衬底上生长Ⅲ–Ⅴ半导体材料及相关器件结构时抑制界面互扩散的阻挡层.
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