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本文采用非破坏的γ能谱方法分析了3根在不同电镀工艺条件下制备的铀靶，通过对铀的分布及丰度测量数据的比较，2号铀靶计数率间的相对标准偏差小于1%，235U分布较为均匀，且铀靶上235U的含量较高，在该电镀工艺条件下制备铀靶可满足同位素生产要求。
γ能谱法在电镀铀靶测量中的应用
【摘 要】
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本文采用非破坏的γ能谱方法分析了3根在不同电镀工艺条件下制备的铀靶，通过对铀的分布及丰度测量数据的比较，2号铀靶计数率间的相对标准偏差小于1%，235U分布较为均匀，且铀靶上23
【机 构】
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中国工程物理研究院核物理与化学研究所,四川绵阳919信箱230分箱621900
【出 处】
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第十届中国核靶技术学术交流会
【发表日期】
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2009年8期
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