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PECVD法制备氢化纳米晶硅薄膜及其晶化特性的研究

来源 :第二十届全国半导体物理学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：a717878213a

【作 者】

：

刘剑 黄仕华 

【机 构】

：

浙江师范大学材料物理系,浙江金华,321004

【出 处】

：

第二十届全国半导体物理学术会议

【发表日期】

：

2015年3期

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