【摘 要】
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对不同辐照剂量,不同原始氧含量的微氮直拉硅在单管扩散炉中分别进行1100℃不同时间的一步热处理,利用傅立叶红外光谱仪检测间隙氧含量变化.实验发现短时间退火时快中子
【机 构】
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河北工业大学材料学院,天津,300130
【出 处】
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华北地区硅酸盐学会第八届学术技术交流会
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对不同辐照剂量,不同原始氧含量的微氮直拉硅在单管扩散炉中分别进行1100℃不同时间的一步热处理,利用傅立叶红外光谱仪检测间隙氧含量变化.实验发现短时间退火时快中子辐照微氮直拉硅间隙氧含量上升,退火1h时达到顶峰.在随后的退火过程中间隙氧含量下降,退火24h后间隙氧含量降到最低,高氧样品氧含量下降明显.与未掺氮辐照直拉硅相比,间隙氧含量下降延缓,24h退火后,微氮直拉硅的间隙氧含量较未掺氮直拉硅低.
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