【摘 要】
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本文制作了一种采用"Pt底电极/铁氧体磁性薄膜/Cu线圈"结构形式的新型磁膜微电感.该电感使用铁氧体磁膜作为中间层磁性增强元件,形成层叠通孔结构.电感制作过程的关键步骤包括:使用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法、旋涂法和快速热处理(RTP)工艺制作铁氧体磁性薄膜;采用离子束刻蚀(IBE)工艺进行磁膜刻蚀,制作磁膜通孔;利用溅射和电镀方法制作底电极和电感线圈.实验表明,该新型层叠结构磁膜微电感制作工艺
【机 构】
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清华大学微电子学研究所,北京,100084 华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430000
【出 处】
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第九届全国敏感元件与传感器学术会议
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本文制作了一种采用"Pt底电极/铁氧体磁性薄膜/Cu线圈"结构形式的新型磁膜微电感.该电感使用铁氧体磁膜作为中间层磁性增强元件,形成层叠通孔结构.电感制作过程的关键步骤包括:使用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法、旋涂法和快速热处理(RTP)工艺制作铁氧体磁性薄膜;采用离子束刻蚀(IBE)工艺进行磁膜刻蚀,制作磁膜通孔;利用溅射和电镀方法制作底电极和电感线圈.实验表明,该新型层叠结构磁膜微电感制作工艺流程简单可靠,与常规集成工艺相兼容.
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