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针对近红外截止滤光膜具有通带波段内平均透射率高,抑制带截止深度深,波纹系数小,可适应复杂环境条件,具有高稳定性和高可靠性等特点,论述了近红外截止滤光膜的设计原则和方法,采用IAD等离子体辅助沉积工艺,镀制红外截止滤光膜,论证了等离子体辅助沉积工艺有利于改善近红外截止滤光膜层的显微结构和残余应力消除".