等离子体辅助沉积相关论文
HfO2 and SiO2 single layer is deposited on glass substrate with plasma ion assistance provided by Leybold advanced plasm......
该论文主要介绍一种薄膜制备的新方法--电子回旋共振等离子体辅助脉冲激光沉积(electron cyclotron resonance plasma assisted pu......
本论文的主要内容是在激光和等离子体特性研究的基础上进行激光和等离子体的应用探索，摸索一种新的材料制备方法—基于电子回旋共振......
本论文主要研究方向为利用激光烧蚀和微波放电联合作用摸索一种制备氧化锌薄膜材料的新方法,并在此基础上研究氧化锌的性质和氮掺......
本论文分为两部分,一是在激光和等离子体特性研究的基础上进行激光和等离子体的应用探索,利用基于电子回旋共振(electron cyclotro......
报道了用等离子体辅助（Plasma-IAD）沉积技术镀制中心波长在1054nm的大口径（大于0.9m2）无漂移偏振膜，经高温高湿处理后，中心波长的漂移小......
本文报导了用等离子体辅助（Ｐｌａｓｍａ－ＩＡＤ）沉积技术沉积ＨｆＯ２／ＳｉＯ２减反及高反光学薄膜。在波长１０６４ｎｍ处，ＨｆＯ２／ＳｉＯ２减反膜透过率大于９９．５％，ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反膜反射率大于９９．５％。......
针对近红外截止滤光膜具有通带波段内平均透射率高,抑制带截止深度深,波纹系数小,可适应复杂环境条件,具有高稳定性和高可靠性等特......
本文的主要内容是利用脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,PLA)产生的激光等离子体和电子回旋共振(electron cyclotron resonance......
