石墨烯墨水在喷墨打印中的应用

来源 :2015全国非银盐成像材料及光刻胶发展论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jimzhan
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
本文主要介绍了应用在喷墨打印技术中的两类石墨烯墨水,结合国内外研究前沿简要介绍当前两种墨水的研究现状和应用,并指出喷印石墨烯墨水的未来挑战.将石墨烯用于喷墨打印中的关键部分是石墨烯墨水的制备。液相剥离法虽然可以的得到结构完整的石墨烯墨水但需要在高温退火下才可以将溶剂和表活剂除去,要求基材具有较高的玻璃化转变温度;而氧化还原法制备的石墨烯墨水,虽石墨烯结构的破坏导致性能大大下降,但适用于大部分基材,为了制造可以喷印在更廉价基底上的具有更高导电率及更高分辨率的石墨烯墨水仍需做大量的研究工作。而在喷墨工艺上,具有低电阻率的石墨烯可通过喷墨印刷的方式制成柔性电子器件,但打印速率相对不高,而且只能打印薄层墨,厚层墨的打印只能通过重复多次打印,所以开发产业化用的先进喷墨打印机也是当务之急。喷墨打印作为一项新的材料制备技术,在柔性电子屏,电子纸上有着较好的应用前景。虽然面临不少挑战,但随着这些问题的不断解决。石墨烯墨水和喷墨打印技术将会获得更广泛的应用。
其他文献
研究背景伴随着集成电路特征尺寸的减少,器件的运算速率将增加,功耗会降低半导体器件的特征尺寸将继续缩减到 32 nm、22 nm、甚至16 nm随着技术的不断进步,集成电路越来越追求小尺寸,高生产率和高集成度如何解决22nm和16nm纳米加工的技术节点电子束光刻技术纳米压印技术定向自组装技术嵌段共聚物定向自组装技术(BCP-DSA)两亲性嵌段共聚物(BcP)可以在选择性溶液中发生微相分离经过热退火或
会议
主要内容微电子技术现状与发展光刻胶技术现状光刻胶的市场需求国家对光刻胶研发的持续支持我国光刻胶的发展展望微电子技术现状与发展微电子技术现状与发展微细加工技术微细加工技术实际上就是实现图形转移整个过程中的处理技术,也就是将掩膜母版上的几何图形先转移到基片表面的光刻胶胶膜上,然后再通过从曝光到蚀刻等一系列处理技术把光刻胶膜上的图像复制到衬底基片表面并形成永久性图形的工艺处理过程.
会议
主要内容紫外光刻胶树脂深紫外光刻胶树脂EUV光刻胶树脂纳米压印光刻胶树脂电子束、X射线光刻胶树脂厚膜光刻胶树脂主要光刻胶体系及应用一、紫外光刻胶树脂聚乙烯醇肉桂酸酯紫外负性光刻胶M1 主要的光刻胶体系Major photoresists
会议
光敏剂:光刻胶中的感光物质紫外光刻胶:重氮盐化合物,双叠氮化合物,重氮荼醌磺酸酯深紫外光刻胶(化学增幅型):各种光产酸剂i-线光刻胶中光敏剂(Photoactive Compound,PAC)—重氮荼醌磺酸酯的光化学反应:1线胶对PAC的一些要求:(1)光漂白后在365nm残余吸收小,透过性高.这要求PAC的backbone在365nm吸收小,透过性高.(2)酯化度高,DNQ基团的数目多.(3)
会议
本文设计合成了含香豆素光敏基团的液晶单体4-(6-丙烯酰己氧基)-7-(6-己氧基香豆素)联苯,并将这种单体通过自由基聚合合成均聚物分子聚[4-(6-丙烯酰己氧基)-7-(6-己氧基香豆素)联苯].对聚合物分子薄膜在线性偏振紫外光下曝光,光敏基团发生轴选择性光化学反应.考察了热处理对曝光膜和未曝光膜取向影响的研究,结果表明在液晶温度区间热处理都可增大薄膜的取向性能,但热处理曝光后薄膜,光学各向异性
本文将具有香豆素基的可聚合单体引入微胶囊壁材中实现了对光二聚和光分解的调控.通过界面聚合的方法,选择异佛尔酮二异氰酸酯IPDI和香豆素基光敏单体为原料,DBTDL为催化剂制备微胶囊结构,并通过365nm光照实现结构的稳定.通过包裹D-8及ODB-2染料分别对其壁材荧光特性和光控释放进行研究,发现该种香豆素基修饰的微胶囊在254nm和365nm光照下发生染料释放和截止,呈现优异的可调控光开关功能.
紫外光固化技术是指利用紫外光作为光源,在光引发剂的作用下,在常温下引发带活性官能团的预聚物和功能化单体进行交联聚合而迅速固化的一门新兴技术.该工艺技术具有高效、适应性广、经济、节能、环境友好的特点.以光敏树脂为原料的立体快速成形3D打印技术,具有成本低、精度高、成型快等优点,在各个领域得到广泛的应用.重点讨论了3D打印制作柔性版光敏树脂的性能的评价方法以及配方设计的基本方法和评价指标,并对以光敏树
PET膜以其优异的性能在光学薄膜领域得到了广泛应用,而功能性PET光学膜主要是通过在PET薄膜表面涂覆各种功能性涂层所得,因此PET光学薄膜的涂层技术是光学膜的关键技术之一.本文通过对聚酯合成、底层涂布液、涂层固化方式及涂布工艺等方面的研究,开发一种新型PET型光学薄膜用底层,解决了PET聚酯薄膜与功能层的界面粘接问题.
水合肼作还原剂制备石墨烯是目前最常用的方法.但是水合肼具有剧毒,有毒气体容易挥发进入空气中,对环境造成污染.因此,急需寻找绿色无毒的还原剂来替代水合肼制备石墨烯.本文采用改进的Hummer法制备氧化石墨,然后分别以水合肼、葡萄糖和维生素C作为还原剂,通过化学还原的方法还原氧化石墨烯,制备得到石墨烯材料.采用紫外可见吸收光谱(UV-vis)、拉曼光谱(RS)、X-射线衍射仪(XRD)对不同的还原剂所
近年来,高度有序的纳米结构的制备逐渐成为纳米技术应用领域的热点和难点.一般而言,特征尺寸300nm以上的结构可以通过传统光刻技术得到,尺寸30-300nm的通过电子束光刻技术制得,而30nm以下很难通过传统的半导体光刻技术制得.面对微电子领域向更小,更快和更高密度方向发展的趋势,传统的"自上而下"的方法如光刻蚀等已经很难满足需要,而"自下而上"的如自组装技术等由于能够突破传统的限制,作为一种制备纳