【摘 要】
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首次在氩气气氛中对用磁控溅射法制备CN薄膜的热稳定性进行了TG-MS研究。实验结果表明，CN薄膜在室温至700℃左右约有7℅的失重。经MS表征，在180℃，390℃，540℃分别检测出C(m/z=12
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所(上海)
【出 处】
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第十届全国化学热力学和热分析学术年会
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首次在氩气气氛中对用磁控溅射法制备CN<,x>薄膜的热稳定性进行了TG-MS研究。实验结果表明，CN<,x>薄膜在室温至700℃左右约有7℅的失重。经MS表征，在180℃，390℃，540℃分别检测出C<+>(m/z=12)，NO<+>(m/z=30)，O<,2><+>(m/z=32)，CO<,2><+>(m/z=44)，CN<+>(m/z=26)，C<,2>N<,2><+>(m/z=52)和NO<,2><+>(m/z=46)等正离子质谱峰。在700-1400℃温区内，出现了42.8℅的失重，MS表征在1000℃左右有C<,2><+>(m/z=12)，O<,2><+>(m/z=32)，CO<,2><+>(m/z=44)，NO<,2><+>(m/z=46)正离子质谱峰。该文还对CN<,x>薄膜在热处理过程中的挥发机理作了初步探讨。
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