【摘 要】
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采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECvD)法在聚酰亚胺衬底上制备了非晶硅薄膜，主要研究了射频功率对沉积速率、均匀性、薄膜应力的影响。实验结果表明，射频功率40w，气流量H2：siH4=60sccm：5sccm时，非晶硅薄膜的沉积进入了耗尽模式，速率约为12nm/min;同时薄膜的均匀性得到了明显改善。在此基础上获得了光电转换效率为4.54％(5cm×5cm，AM0，25℃)的聚酰亚胺衬底
【机 构】
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上海空间电源研究所,上海200233 上海太阳能工程技术研究中心有限公司,上海 200241 上海
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采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECvD)法在聚酰亚胺衬底上制备了非晶硅薄膜，主要研究了射频功率对沉积速率、均匀性、薄膜应力的影响。实验结果表明，射频功率40w，气流量H2：siH4=60sccm：5sccm时，非晶硅薄膜的沉积进入了耗尽模式，速率约为12nm/min;同时薄膜的均匀性得到了明显改善。在此基础上获得了光电转换效率为4.54％(5cm×5cm，AM0，25℃)的聚酰亚胺衬底非晶硅太阳电池;但是非晶硅薄膜的应力随功率的增加而逐渐增大，太阳电池的卷曲现象比较明显。
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