【摘 要】
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本文分析了用反应离子刻蚀系统(RIE)刻蚀多层难熔金属的可行性,研究了用下电极表面材料为阳极氧化铝的RIE连续刻蚀Au、Pt、W、Ti四层难熔金属的刻蚀技术.通过实验证明了阳极
【机 构】
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中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄,050051
【出 处】
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第十三届全国电子束、离子束、光子束学术年会
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本文分析了用反应离子刻蚀系统(RIE)刻蚀多层难熔金属的可行性,研究了用下电极表面材料为阳极氧化铝的RIE连续刻蚀Au、Pt、W、Ti四层难熔金属的刻蚀技术.通过实验证明了阳极氧化铝经氩离子轰击后,在用SF6和CF4等离子体刻蚀W、Ti过程中对聚合作用有不同程度的影响,在SF6等离子体中会加剧聚合作用,形成大量聚合物,而在CF4等离子体中则影响较小,发生的聚合作用较弱.提出了在以阳极氧化铝为下电极表面层的RIE中,依次用Ar、CF4和CF4+O2作刻蚀气体连续刻蚀Au、Pt、W、Ti四层金属的新刻蚀技术,较好地实现了大圆片上具有亚微米图形Au、Pt、W、Ti四层结构的难熔金属电极刻蚀.
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