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该文介绍一种新的化学气相沉积金刚石薄膜的方法－－双阴极辉光放电合成金刚石薄膜法，及其基本原理。采用此方法在Ｓｉ、Ｍｏ基片上合成了金刚石薄膜，从其Ｘ－射线衍射分析及形貌显示薄膜的品质较为理想。
双阴极辉光放电合成金刚石薄膜的研究
【摘 要】
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该文介绍一种新的化学气相沉积金刚石薄膜的方法－－双阴极辉光放电合成金刚石薄膜法，及其基本原理。采用此方法在Ｓｉ、Ｍｏ基片上合成了金刚石薄膜，从其Ｘ－射线衍射分析及形貌显示薄膜的品质
【机 构】
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理工大学表面工程研究所
【出 处】
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中国第八届表面保护技术暨第二次三峡工程防腐蚀技术交流会
【发表日期】
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1997年期
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