GaN基HEMT栅终端场板击穿特性研究

来源 :四川省电子学会半导体与集成技术专委会2008年度学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wanghao7511
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本文利用二维仿真研究了不同栅终端场板结构下的AlGaN/GaNHEMTs沟道电场的分布情况。仿真基于漂移扩散模型,考虑了迁移率的高场饱和效应,忽略了自热效应与热载流子效应。分析表明,在栅场板长度和栅漏间距一定的情况下,绝缘层厚度过大或者过小都会使击穿电压大幅减小;在绝缘层厚度和栅漏间距一定的情况下,栅场板长度超过某个值后,击穿电压不会再提高;在绝缘层厚度和栅场板长度一定的情况下,栅漏间距超过某个值后,击穿电压也不会再提高。仿真显示,当场扳长度为2.85μm,绝缘层厚度为0.6μm,栅漏间距为4.10μm时,击穿电压达到644V,与没加场板时的44V相比,击穿电压提高了14倍多。
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