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本论文合成了一系列新型可经紫外曝光直接光刻的侧链型非线性生光学共聚聚酰亚胺并对其性能进行了研究.
新型可光刻侧链二阶非线性光学聚酰亚胺的合成与表征
【摘 要】
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本论文合成了一系列新型可经紫外曝光直接光刻的侧链型非线性生光学共聚聚酰亚胺并对其性能进行了研究.
【机 构】
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上海交通大学化学化工学院(上海)
【出 处】
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2001年全国高分子学术报告会
【发表日期】
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2001年10期
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