【摘 要】
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本文以ReF6、WF6以及H2为原料,用化学气相共沉积的方法,成功的在铜基片表面沉积出钨铼合金.实验分析表明:沉积层结构为单相均匀固溶体.沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同
【机 构】
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北京工业大学材料科学与工程学院功能材料教育部重点实验室,北京,100022
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本文以ReF6、WF6以及H2为原料,用化学气相共沉积的方法,成功的在铜基片表面沉积出钨铼合金.实验分析表明:沉积层结构为单相均匀固溶体.沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同.改变反应气体中WF6、ReF6相对含量可实现膜层成分可控.采用化学气相沉积法沉积钨铼等难熔金属合金,沉积纯度高,设备简单沉积速度快,在高温抗烧蚀涂层及耐腐蚀涂层方面具有广泛的应用前景.
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