【摘 要】
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随着柔性电子和可穿戴设备的迅速发展,用于图案化薄膜材料制备的新技术也备受人们的广泛关注。目前最为常用的方法是直接将图案化薄膜材料沉积在柔性基底上,这种方法基底
【机 构】
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中国科学院长春应用化学研究所,长春,130022
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随着柔性电子和可穿戴设备的迅速发展,用于图案化薄膜材料制备的新技术也备受人们的广泛关注。目前最为常用的方法是直接将图案化薄膜材料沉积在柔性基底上,这种方法基底的选择具有局限性,主要集中在PDMS[1],纸[2],PI[3]等基底。而且,现存方法中的沉积和图案化过程常借助高能量沉积技术,在洁净环境下,通过复杂的制备过程得以实现。严重限制了其大规模生产和器件的实际应用。
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