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氮气氛退火对纳米硅--氧化硅薄膜中氧的形态的影响
【机 构】
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浙江大学硅材料渐家重点实验室(杭州)
【出 处】
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第十二届全国半导体物理学术会议
【发表日期】
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1999年10期
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