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采用两种不同的化学镀镍液，获得了稳定电位差为170mV以上的双层化学镀镍层，有效地降低了镀层孔隙率，同时提高了镀层自身的耐腐蚀性能。
化学镀双层镍工艺的研究
【摘 要】
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采用两种不同的化学镀镍液，获得了稳定电位差为170mV以上的双层化学镀镍层，有效地降低了镀层孔隙率，同时提高了镀层自身的耐腐蚀性能。
【机 构】
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滨工业大学应用化学系
【出 处】
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第四届全国化学镀会议
【发表日期】
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1998年期
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