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<正>采用数值模拟,研究三维垂直旋转式MOCVD反应器内生长AlN时副产物纳米颗粒的运动轨迹和沉积颗粒沿晶片半径方向上的分布规律,探究反应器底座旋转速度对颗粒在晶片上的沉积速率和沉积区域的影响。
垂直旋转式MOCVD反应器中副产物颗粒的运动分析
【摘 要】
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<正>采用数值模拟,研究三维垂直旋转式MOCVD反应器内生长AlN时副产物纳米颗粒的运动轨迹和沉积颗粒沿晶片半径方向上的分布规律,探究反应器底座旋转速度对颗粒在晶片上的沉积
【机 构】
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西安交通大学能源与动力工程学院;
【发表日期】
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2004年期
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