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半导体集成电路的生产制造向300mm晶圆的方向发展,对半导体设备的工艺控制、物料传输,设备管理和生产调度都有着更进一步的需求。本文通过分析了半导体制造流程和控制要求,阐述了半导体设备控制中的SEMI标准模型,并探讨了这一领域进一步研究的发展方向。
半导体设备控制中SEMI标准模型研究
【摘 要】
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半导体集成电路的生产制造向300mm晶圆的方向发展,对半导体设备的工艺控制、物料传输,设备管理和生产调度都有着更进一步的需求。本文通过分析了半导体制造流程和控制要求,阐
【机 构】
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中国科学院沈阳自动化研究所沈阳110016
【出 处】
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第19届中国过程控制会议
【发表日期】
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2008年7期
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