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计算机控制光学抛光过程中最佳工艺参数的研究
【机 构】
:
光机所应用光学国家重点实验室
【出 处】
:
21世纪的制造业,人、机器与环境先进制造技术学术会议
【发表日期】
:
1996年期
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