依附于边界限制效应的伪临界起皱应变

来源 :中国化学会第29届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:nn18
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  当粘附于相对软厚基底上的硬质薄膜受到的压缩应变超过临界起皱应变时,薄膜表面常常发生起皱现象。实际上实验中所需的临界起皱应变(定义为伪临界起皱应变,εpc)总是大于理论值。本论文研究了边界限制效应对εpc的影响并进一步用于控制这种自发的表面起皱行为。边界限制效应来源于拉伸中的PDMS条经选择性氧等离子体曝光形成的SiOx层区域(用D1表示)和未曝光的PDMS区域(用D2表示)组成。通过原位光学显微镜观察在不断释放预应变的情况下,两区域的表面形貌的演变,由此获得εpc的相关信息。系统研究了影响εpc的实验因素,包括条形铜网相对于机械单轴拉伸方向的取向、铜网目数、氧等离子体曝光时间、D1和D2之间的相对硬软程度。所得的实验结果并从理论分析方面得以支持。
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